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技術文章

高光無熔接痕注塑可以從根本上解決**制品的問題
高光無熔接痕注塑采取平均速熱速冷模腔的方式，高光無熔痕注塑成型理論建立在平均攝氏度場、應力場、流場以及密度場及硬殼冷卻的基礎上。注射時，提前將模腔快速平均加熱至熔流體的熔融攝氏度，使射入的熔流體在充溢模腔的過程中，攝氏度非但沒有損失而且還得到一定的補充，因此消除了因溫差構成 “ 熔接痕 ” 波紋 ” 浮纖 ” 光潔度 ” 光取向色差 ” 缺料 ” 等**的原由；冷卻時，將模腔壁快速平均降低至熔流體的玻璃化攝氏度以下，使充斥在模腔中的熔體與模腔壁接觸的外表快速構成硬殼固化，硬殼內心中的熔體則在補射壓力中逐步冷卻固化，高光無熔接痕注塑因此消除了因漸冷冷卻構成 “ 縮癟 ” 應力蓄積 ” 等**的原由。

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